Application ng magnetron sputtering

Aplikasyon ng Pag -sputter ng Magnetron

Ang magnetron sputtering ay ang mahusay na pamamaraan para sa mababang pag -aalis ng temperatura sa teknolohiya ng PVD. Sa panahon ng magnetron sputtering, ang mga electron ay hinihigop ng madilim na takip ng patlang o ang espesyal na nakalakip na anode, at ang temperatura ng nakuha na substrate ay mas mababa kaysa sa tradisyonal na sputtering. Ang iba pang mga materyales na sensitibo sa temperatura ay idineposito bilang mga substrate. Noong 1998, iminungkahi ng Teel Coating Ltd. ang teknolohiya ng pagdeposito ng mataas na kalidad na lata at TICN coatings sa pamamagitan ng magnetron sputtering sa mababang temperatura, at ang temperatura ng substrate ay maaaring ibaba sa mas mababa sa 70 ° C, sa gayon pinalawak ang posibleng saklaw ng aplikasyon ng magkatulad na coatings. Sa mga nagdaang taon, ang Loughborough University sa United Kingdom ay matagumpay na nabawasan ang temperatura ng substrate sa panahon ng magnetron sputtering mula 350 hanggang 500 ° C hanggang tungkol sa 150 ° C sa temperatura ng silid, at matagumpay na inilapat ang mga coatings ng lata at CRN sa buhay ng artipisyal na ngipin ng 10 hanggang 10 beses. Makikita na ang pananaliksik sa mga mababang pamamaraan at proseso ng pag -aalis ng temperatura ay napaka makabuluhan at nangangako.