Menu ng web

Paghahanap ng produkto

Wika

Ibahagi

Balita

Home / Balita / Mga karaniwang pamamaraan ng teknolohiya ng PVD

Mga kategorya ng balita

Mga kategorya ng produkto

Kamakailang mga post

Balita
Aug 16,2019 Nai -post ng admin

Mga karaniwang pamamaraan ng teknolohiya ng PVD

Mga karaniwang pamamaraan ng teknolohiya ng PVD

RF (dalas ng radyo) sputtering

Ang dalas ng RF sputtering ay tungkol sa 13.56 MHz. Hindi nito kailangan ng mainit na katod at maaaring mamula sa mas mababang presyon at boltahe. Ang RF sputtering ay maaaring magdeposito Mga supplier ng Coating Systems ng China Hindi lamang mga pelikulang metal, kundi pati na rin ang pag -insulto ng mga dielectric na pelikula ng iba't ibang mga materyales, kaya mayroon itong malawak na hanay ng mga aplikasyon.

Ibahagi:

Konsultasyon ng produkto

Ang iyong email address ay hindi mai -publish. Ang mga kinakailangang patlang ay minarkahan *

Mga kaugnay na produkto