Paano pinangangasiwaan ng vacuum coating machine ang pagtanggal ng mga contaminant o impurities sa panahon ng proseso ng coating?

Kapaligiran ng vacuum
Ang vacuum coating machine gumagana sa isang kapaligiran na may mababang presyon, na isa sa mga pinaka-kritikal na tampok nito sa pagtiyak ng pag-alis ng mga kontaminant. Sa pamamagitan ng paglikha ng vacuum sa loob ng coating chamber, pinapaliit ng system ang pagkakaroon ng hangin, singaw ng tubig, at iba pang mga gas na maaaring makagambala sa proseso ng patong. Sa isang vacuum, ang potensyal para sa oksihenasyon, kontaminasyon, at mga reaksiyong kemikal na may mga atmospheric gas (tulad ng oxygen o nitrogen) ay makabuluhang nabawasan. Pinipigilan ng kinokontrol na kapaligirang ito ang pagpasok ng mga hindi gustong particle na maaaring magpababa sa kalidad ng coating. Ang pagbabawas ng mga contaminant na ito sa atmospera ay mahalaga sa mga proseso tulad ng pag-utal o evapoation, kung saan kahit na ang mga minutong antas ng impurities ay maaaring makaapekto nang masama sa perfomance ng coating.

Pre-treatment at Paglilinis ng mga Substrate
Bago magsimula ang proseso ng coating, ang mga substrate (ang mga materyales na pahiran) ay sumasailalim sa iba't ibang paraan ng pre-treatment upang matiyak na wala silang mga contaminant. Ang paglilinis ng mga substrate ay kritikal sa pagkamit ng mataas na kalidad na coating, dahil kahit na ang maliliit na residue, gaya ng mga langis, fingerprint, alikabok, o mga oganikong contaminant, ay maaaring makagambala sa pagdirikit ng coating. Kasama sa mga karaniwang pamamaraan ng pre-treatment paglilinis ng plasma , kung saan ang isang ionized gas (plasma) ay ginagamit upang alisin ang mga organikong nalalabi, langis, at iba pang mga contaminant mula sa ibabaw, na nag-iiwan dito na lubos na reaktibo at hata para sa patong. Bukod pa rito, paglilinis ng ultrasonic ay ginagamit sa ilang mga sistema, gamit ang mga high-frequency na sound wave upang pukawin at alisin ang particulate matter mula sa substrate. Paglilinis ng kemikal Ang mga pamamaraan, na gumagamit ng mga solvent o detergent, ay maaari ding ilapat upang matiyak na ang ibabaw ay libre mula sa anumang mga langis o organikong residues na maaaring makagambala sa proseso ng pag-deposition.

Sputter Etching o Ion Etching
Upang matiyak na ang ibabaw ng substrate ay malinis hangga't maaari bago patong, sputter etching or pag-ukit ng ion madalas na ginagamit ang mga teknik. Sa sputter etching, ang mga high-energy ions ay nakadirekta sa ibabaw ng substrate, na epektibong nag-aalis ng anumang natitirang mga contaminant, tulad ng dumi o mga oxide, at nililinis ang ibabaw sa isang mikroskopikong antas. Ang prosesong ito ay hindi lamang nag-aalis ng mga pisikal na kontaminado ngunit lumilikha din ng mas magaspang, mas reaktibong kemikal na ibabaw na nagpapahusay sa pagdirikit ng materyal na patong. Ang epekto ng paglilinis ng ion etching ay mahalaga para matiyak na ang coating ay bumubuo ng isang malakas, pare-parehong bono sa substrate. Ito ay lalong mahalaga para sa mga high-precision na application kung saan ang kalidad ng pagdirikit ng coating ay mahalaga para sa pangmatagalang tibay at pagganap.

Mga Vacuum Pump at Filtration System
Ang role of mga vacuum pump sa isang coating machine ay upang mapanatili ang isang low-pressure na kapaligiran sa pamamagitan ng patuloy na paglisan sa silid ng hangin at iba pang mga gas, kaya nag-aalis ng mga kontaminant mula sa parehong silid at sa mga papasok na materyal na daloy. Gumagana ang mga pump na ito upang mapababa ang atmospheric pressure sa loob ng chamber, na nag-aalis ng volatile organic compounds (VOCs), moisture, at iba pang mga gas na posibleng makagambala sa proseso ng deposition. Bilang karagdagan, ang sistema ng vacuum ay nilagyan ng ultra-pinong mga filter and pre-filter , na pumipigil sa mga particulate, alikabok, at iba pang mga dumi mula sa pagpasok sa silid. Ang mga filter na ito ay lalong kritikal sa pagpigil sa kontaminasyon mula sa panlabas na kapaligiran o mula sa mga materyales na ginamit sa proseso, tulad ng mga target na materyales o gas.

In-chamber Purging
Ang vacuum coating machine often incorporates a paglilinis hakbang kung saan ang mga inert na gas, tulad ng argon or nitrogen , ay ipinakilala sa silid. Ang layunin ng purging ay upang palitan ang anumang natitirang hangin o kahalumigmigan na natitira sa silid ng malinis, hindi gumagalaw na kapaligiran. Nakakatulong ito upang maalis ang anumang nananatili na mga contaminant o gas na maaaring nakulong sa system pagkatapos na selyuhan ang silid o pagkatapos ng paghawak ng materyal. Ang proseso ng purging ay isang kritikal na hakbang para sa paghahanda ng system bago magsimula ang deposition, dahil tinitiyak nito na ang kapaligiran ng silid ay kasinglinis at walang mga kontaminant hangga't maaari. Bukod pa rito, nakakatulong ang purging na alisin ang anumang mga particle na maaaring natanggal sa panahon ng paghawak ng substrate, na binabawasan ang panganib ng kontaminasyon sa panahon ng aktwal na proseso ng coating.

Target na Kadalisayan ng Materyal
Ang quality of the target na materyal na ginagamit sa proseso ng patong ay direktang nakakaimpluwensya sa kadalisayan ng panghuling patong. Pinipili ang mga high-purity na target na materyales upang mabawasan ang pagpasok ng mga impurities sa panahon ng deposition. Halimbawa, kapag ginagamit sputtering or pagsingaw , ang mga target na materyales (tulad ng mga metal, ceramics, o polymer) ay maingat na pinili upang matiyak na ang mga ito ay libre mula sa mga kontaminant na maaaring makaapekto sa pagganap o pagdirikit ng coating. Ang mga dumi sa target na materyal ay maaaring ideposito kasama ng nilalayon na materyal na patong, na humahantong sa isang hindi malinis o hindi pantay na pangwakas na patong. Ang paggamit ng mataas na kalidad na mga target na materyales ay nagpapaliit sa panganib ng kontaminasyon at nakakatulong na mapanatili ang integridad ng proseso ng coating.