Magnetron sputtering vacuum coating machine

Magnetron sputtering vacuum coating machine

Ang isang magnetron sputtering vacuum coating system ay gumagamit ng mga high-energy ion upang magdeposito ng isang manipis na layer ng materyal sa isang substrate. Ang proseso ay mabilis at mura, at gumagawa ng isang mataas na katas na patong. Ang mga high-energy ion ay pinakawalan mula sa isang mapagkukunan na materyal at bumangga sa isang inert gas, tulad ng argon. Ang mga ions na ito ay gumagawa ng isang plasma at mga atomo ng mapagkukunan ng materyal ay na -ejected.

Ang magnetron sputtering vacuum-coating machine ay karaniwang ginagamit sa paggawa ng alahas. Ang mga rotary at nakatigil na disenyo nito ay madaling maiayos upang matugunan ang isang iba't ibang mga kinakailangan sa patong. Ang makina na ito ay angkop para sa patong anumang metal o non-metallic substrate. Maaari rin itong magamit upang mag -coat ng plastik, ceramic, at crystal glass. Ang mga tampok na high-end nito ay may kasamang mahusay na pagkakapareho at mabilis na mga rate ng pag-aalis.

Ang isang magnetron sputtering vacuum coating system ay isang malakas at maraming nalalaman tool para sa high-volume production. Depende sa mga pangangailangan at aplikasyon, ang pamamaraan na ito ay maaaring lumikha ng mga manipis na pelikula na may malawak na hanay ng mga nais na katangian. Ang iba't ibang mga sistema ng kuryente, materyales, at gas ay maaaring magamit upang ma -optimize ang proseso. Bago magsimula ang proseso, ang substrate ay naka -mount sa may -hawak. Ang may -hawak pagkatapos ay dumaan sa isang silid ng lock lock upang maiwasan itong gumalaw.

Ang vacuum coating system na ito ay isang pamamaraan na may mababang gastos na gumagawa ng de-kalidad na coatings na may mataas na porsyento ng pass rate. Ito ay mainam para sa aviation at high-end electronics manufacturing. Maaari rin itong magamit para sa alloy plating at composite metal films. Ito ay isang matipid at epektibong paraan upang amerikana ang maraming uri ng mga materyales.

Ang isang magnetron sputtering vacuum coating system ay gumagamit ng isang sputtering mapagkukunan na nagsasamantala sa pagkakulong ng elektron. Ang mga magnet trap electron sa ibabaw ng target, na nagreresulta sa isang mas mataas na density ng plasma at mas mataas na rate ng pag -aalis. Hindi tulad ng maginoo na mga pamamaraan ng sputtering, ang pamamaraan na ito ay ligtas at hindi nagiging sanhi ng pinsala sa object ng patong.

Ang sputtering gas na ginamit sa proseso ay isang mahalagang pagsasaalang -alang. Ang uri ng gas na gagamitin ay nakasalalay sa bigat ng atomic ng substrate. Halimbawa, ang mga mas magaan na materyales ay nakikinabang mula sa paggamit ng neon o xenon. Kung ang silid ay naglalaman ng oxygen, ang proseso ay magiging reaktibo.

Ang proseso ng sputtering ay nagsasangkot ng paglalantad ng target na materyal sa mga reaktibo na gas. Ang mga gas na ito ay gumanti sa target na materyal at lumikha ng isang molekular na tambalan. Ang materyal ay pagkatapos ay idineposito bilang isang manipis na patong ng pelikula. Halimbawa, kapag ang isang target na silikon ay reaktibo na sputtered na may oxygen o nitrogen, gumagawa ito ng silikon oxide o silikon nitride. Ang pamamaraang ito ay madalas na ginagamit upang mag -coat ng maraming mga materyales nang sabay -sabay.

Magnetron sputtering coating machine

Ang multi-arc ion at sputtering coatings ay maaaring ideposito sa isang malawak na hanay ng mga kulay. Ang saklaw ng mga kulay ay maaaring higit na mapahusay sa pamamagitan ng pagpapakilala ng mga reaktibo na gas sa silid sa panahon ng proseso ng pag -aalis. Ang malawak na ginagamit na reaktibo na gas para sa pandekorasyon na coatings ay nitrogen, oxygen, argon o acetylene. Ang pandekorasyon na coatings ay ginawa sa isang tiyak na saklaw ng kulay, depende sa ratio ng metal-to-gas sa patong at ang istraktura ng patong. Parehong mga salik na ito ay maaaring mabago sa pamamagitan ng pagbabago ng mga parameter ng pag -aalis.

Bago ang pag -aalis, ang mga bahagi ay nalinis upang ang ibabaw ay walang alikabok o mga impurities sa kemikal. Kapag nagsimula ang proseso ng patong, ang lahat ng mga nauugnay na mga parameter ng proseso ay patuloy na sinusubaybayan at kinokontrol ng isang awtomatikong sistema ng control ng computer.

• Materyal ng substrate: Glass, metal (carbon steel, hindi kinakalawang na asero, tanso), keramika, plastik, alahas.

• Uri ng istraktura: Vertical na istraktura, #304 hindi kinakalawang na asero.

• Film Film: Multi-functional metal film, composite film, transparent conductive film, pag-iwas sa pag-iwas sa pelikula, electromagnetic na kalasag na pelikula, pandekorasyon na pelikula.

• Kulay ng Pelikula: Maraming mga kulay, Gun Black, Titanium Golden Kulay, Rose Golden Kulay, Hindi kinakalawang na Kulay ng Bakal, Kulay ng Lila, Madilim na Itim, Madilim na Blue at Iba pang Mga Kulay.

• Uri ng Pelikula: Tin, CRN, ZRN, TICN, TICRN, TINC, TIALN at DLC.

• Mga consumable sa paggawa: titanium, chromium, zirconium, iron, target na haluang metal; Target ng eroplano, target na cylindrical, target na twin, kabaligtaran na target.